陶瓷加熱器系統(tǒng)的質(zhì)量影響因素
在評判陶瓷加熱器的系統(tǒng)質(zhì)量時(shí)，主要取決于整個(gè)加熱操作是否以輻射加熱作為主要方式，以傳導(dǎo)對流加熱為輔。輻射加熱比例越大，系統(tǒng)的性能就會(huì)越好。
通過陶瓷加熱器對大量烘箱和烘箱熱能轉(zhuǎn)換效率的測量和理論研究。20世紀(jì)80年代中期，就提出了兩種識別輻射干燥通道的方法：
①測定干燥道內(nèi)空間溫度、部件表面溫度，只有t空間；②改流水作業(yè)為靜態(tài)烘烤，如果沒有涂膜不均勻的話，可以稱為放射線烘烤道。否則，不能稱為遠(yuǎn)紅外加熱。
在經(jīng)過多年研究、實(shí)踐探討過程之后，研究人員總結(jié)出遠(yuǎn)紅外烘道，烘箱具有以下3條設(shè)計(jì)原則：
（1）均勻放射場設(shè)計(jì)：確保陶瓷加熱器工件可以防在任何位置，表面接受放射能均勻。均勻輻射場設(shè)計(jì)是利用輻射光學(xué)原理計(jì)算一組數(shù)據(jù)，即組件排列方法、組件間隔、反射罩形式、組件與工件之間的距離。從而擺脫元件間隔100mm至350mm，元件與工件距離50mm至400mm的定性設(shè)計(jì)。
（2）均勻勻溫度場設(shè)計(jì)：為了可以避免烘道內(nèi)均勻溫度場被破壞，應(yīng)該讓烘道內(nèi)的所有溫度差都保持在±5～10℃范圍之內(nèi)。
（3）均勻控溫技術(shù)設(shè)計(jì)：采用通斷式控溫會(huì)導(dǎo)致陶瓷加熱器出現(xiàn)局部溫度波動(dòng)太大。晶閘管調(diào)壓可以降低元件輻射，增加對流的作用。因此可以采用調(diào)功器控溫，進(jìn)而讓遠(yuǎn)紅外技術(shù)達(dá)到一個(gè)理想狀態(tài)。
